ROUND LAB - Pine Calming Cica Mask

Le Pine Calming Cica Mask de ROUND LAB est un véritable soin pour les peaux sensibles et irritées. Sa formule unique associe les vertus apaisantes du pin à celles de la centella asiatica, reconnue pour ses propriétés réparatrices.

Enrichi d'un complexe de cinq types de centella asiatica et de trois types d'acide hyaluronique, ce masque offre une action apaisante immédiate tout en hydratant intensément la peau en profondeur. La texture en feuille double ondulation rafraîchit la peau et favorise la pénétration des actifs.

Grâce à sa formulation douce et hypoallergénique, ce masque convient même aux peaux les plus sensibles. Il apaise les rougeurs, réduit les irritations et renforce la barrière cutanée, laissant la peau douce, souple et éclatante.

Actifs et Bienfaits :

• Extrait de pin : Possède des propriétés anti-inflammatoires et apaisantes, idéal pour calmer les peaux irritées.                                                                                        
• Centella asiatica : Répare la peau et favorise la cicatrisation.                                                                                                                 
• Acide hyaluronique : Hydrate intensément la peau en captant l'eau et en la retenant.                                                                                                                            
• Feuille double ondulation : Offre un effet rafraîchissant immédiat et favorise la pénétration des actifs.